2.1. Modificarea suprafeței implantului prin tratarea acestuia cu factori chimici și fizici
2.1.1 Tratamentul cu titan-plasmă
Procesul de pulverizare a titanoplasme constă în crearea unui jet de plasmă, introducerea în acesta a unei pulberi de titan, topirea și dispersarea particulelor, mișcarea lor în fluxul plasmatic și depunerea pe suprafața implantului. Fiind în stare topită, particulele de titan ating suprafața, se condensă și se îmbină unul cu altul, formând un film cu o grosime de aproximativ 30 microni. Pentru ca suprafața implantului să devină uniformă, grosimea stratului de suprafață ar trebui să ajungă la 40-50 microni. Ca urmare a acestei proceduri, se formează o suprafață aspră cu o rugozitate medie de aproximativ 7 pm, ceea ce mărește semnificativ suprafața implantului.
2.1.2. Tratament cu abrazivi (împușcat).
Una dintre metodele general acceptate pentru formarea suprafeței unui implant cu o topografie brută dezvoltată este tratamentul cu aer-abraziv. Metoda constă în injectarea particulelor ceramice dure pe suprafața implantului cu o viteză mare într-un jet de aer comprimat. Gradul de rugozitate a suprafeței va depinde în principal de dispersia particulelor utilizate. Este cunoscut faptul că contaminarea suprafeței implantului poate interfera cu procesele osseointegrative, prin urmare, pentru a evita contaminarea substratului care urmează să fie tratat, este necesar ca materialul din care sunt fabricate peletele să fie stabil din punct de vedere chimic. Ca materiale pentru prelucrarea aerului abraziv, se utilizează oxid de aluminiu, oxid de titan și particule de ceramică de calciu-fosfat.
2.1.3. Tratamentul cu acid al suprafeței implantului (gravura acidă)
2.1.4. Tratamentul implanturilor prin anodizare (oxidare anodică)
Trimiteți-le prietenilor: