Descrierea materialului
- sisteme de pulverizare magnetron (MPC, magnetroni), specializate pentru pulverizarea diferitelor materiale, precum și magnetroni de pulverizare super-rapidă, care asigură o rată de depunere a metalelor de până la 40 μm / min;
- surse de ioni cu catod rece, care asigură o densitate liniară de curent de până la 25 mA / cm din lungimea zonei de lucru;
- pistoale electronice cu surse de alimentare și control electronic al fasciculului, cu putere cuprinsă între 50 și 500 kW, concepute pentru a rezolva problemele de depunere în vid și de topire cu fascicul de electroni a metalelor;
- generatoare de plasmă de înaltă frecvență, care asigură crearea unei plasme dense cu temperatură scăzută, care este un mediu tehnologic universal.
Producem 3 serii de instalații de pulverizare și plasmă chimică cu opt modificări diferite (IN, TN, RS, PS, MO / MT, PCO, PCT). Principala diferență între instalațiile "Nika" este o interfață intuitivă, performanță ridicată și fiabilitate.
Produsele Laboratorului Vacuum Technologies Ltd. sunt potrivite pentru următoarele sarcini:
- tratamentul cu ion-plasmă al suprafeței;
- Nitridarea și carboniturarea;
- asistență ionică;
- depunerea materialelor în stare ionizată (Depunere ionizată de vapori);
- gravarea chimică cu plasmă și precipitarea.
Atunci când se furnizează dispozitive și instalații tehnologice, precum și sub forma unui serviciu separat, se oferă sprijin prin consultări pe teme tehnice și tehnologice.
caracteristicile
Articole similare
Trimiteți-le prietenilor: